小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。
正空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
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以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图
原样品没有镀膜
115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟
115A 120秒 分子泵抽20分钟
真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色
技术参数
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
加热方式
数字式功率调整器
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率
≤1200W
输出电压电流
电压≤12V 电流≤120A
真空度
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
样品台
可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速
8转/分钟
样品蒸发源调节距离
70-140mm
蒸发温度调节
≤1800℃
支持蒸发坩埚类型
钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳
预留真空接口
KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
可选配扩展
机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）
数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）
分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）